Superficie di titanio del tornio di CNC dell'obiettivo farfugliare di elevata purezza per rivestimento di vetro

Titanio di titanio dell'obiettivo di elevata purezza che farfuglia obiettivo

Possiamo fornire l'obiettivo di titanio rotondo, obiettivo di titanio quadrato, obiettivo di titanio rettangolare,

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ISO9001: certificazione 2015

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Gli obiettivi di titanio farfugliare pricipalmente sono utilizzati nell'elettronico e nelle industrie dell'informazione quali i circuiti integrati, la memorizzazione dei dati, i display a cristalli liquidi, la memoria del laser ed i dispositivi di controllo elettronico. Possono anche essere utilizzati nel campo di rivestimento di vetro. Può anche essere utilizzato nei materiali resistenti all'uso, in prodotti decorativi resistenti alla corrosione e premio ad alta temperatura ed in altre industrie.

Obiettivo di titanio di grande purezza e ad alta densità farfugliare:

Obiettivo di titanio farfugliare (purezza: 99,9% -99,999%)

Il magnetron che farfuglia il rivestimento è un nuovo tipo di metodo fisico del deposito. Ci sono molti ovvi vantaggi sopra i metodi del rivestimento di applicazione a spruzzo. Come tecnologia relativamente matura sviluppata, farfugliare del magnetron si è applicato in molti campi. Obiettivo di titanio farfugliare
Farfugliare l'obiettivo di titanio farfugliare di tecnologia

Farfugliare è una delle tecnologie principali per la fabbricazione dei materiali del film sottile. Gli ioni generati dalla fonte di ione sono usati per accelerare ed aggregare nel vuoto per formare un raggio ionico veloce di energia, urtante la superficie solida e scambiante l'energia cinetica fra gli ioni e gli atomi di superficie solidi. Atomi sulla superficie di un permesso solido il solido ed il deposito sulla superficie del substrato. Il solido incastrato è una materia prima per la preparazione dei film sottili depositati con il metodo farfugliare, chiamato farfugliare gli obiettivi. I vari tipi di materiali farfugliati del film sottile sono ampiamente usati nei circuiti integrati a semiconduttore, in photovoltaics, nei supporti di registrazione, negli schermi piatti e nei rivestimenti della superficie del pezzo in lavorazione.

Elaborazione degli obiettivi ricoprenti vari:

Obiettivi del metallo: obiettivo del tungsteno, obiettivo del molibdeno, obiettivo del tantalio, obiettivo del niobio, obiettivo dello zirconio, obiettivo del cobalto, obiettivo del vanadio, obiettivo di rame, obiettivo del platino, obiettivo dell'afnio, obiettivo del niobio, obiettivo di alluminio, obiettivo del ferro, obiettivo del cromo, obiettivo della lega del titanio-niobio, obiettivo della lega dello titanio-zirconio, obiettivo della lega del titanio-tungsteno, obiettivo della lega titanio-GUI, obiettivo dell'titanio-alluminio, obiettivo della lega del nichel-cromo, obiettivo della lega del alluminio-cromo, obiettivo di titanio di grande purezza, obiettivo di titanio di ultra-alto-purezza, obiettivo di grande purezza del nichel, obiettivo di grande purezza del tantalio, materiale di obiettivo del polisiliconico, obiettivo di alluminio di purezza ultraelevata, (99.95%-99.999%),

Classificazione: obiettivo del rivestimento dello ione dell'Multi-arco, obiettivo piano di titanio, obiettivo rotatorio di titanio del tubo, piatto posteriore dell'obiettivo di titanio, tubo posteriore dell'obiettivo di titanio

Usi: rivestimento dello strumento, rivestimento decorativo, industria elettronica, industria dello schermo piatto, rivestimento di vetro basso-e di ampia area, semiconduttore, industria LCD e a energia solare, lente ottica, industria optoelettronica, obiettivo obbligatorio ceramico, obiettivo di spruzzatura, ecc.